美国迫使台积电断供华为、
美国百般阻挠中国进口光刻机等新闻不断冲击国内科技爱好者的视线，
大家在痛斥某些国家做法的同时也不禁奇怪，
全世界都是中国制造了，
区区一个光刻机还要进口吗？
我们可能只知道光刻机是卡脖子的技术，
我们需要大力发展光刻机等等。
但是光刻机到底是什么呢？
接下来将会为您讲述光刻机相关的内容。
我们现在手里拿的手机、
Zx。dzPyfj.coM工作时使用的电脑，
以及其他生活中所用到的智能产品，
你知道里面最核心的部分是什么吗？
对，
就是芯片。
而光刻机是芯片生产中不可或缺的设备。
光刻到底是一个什么技术呢？
光刻这个概念，
就是将图纸上的图案，
通过各种化学和物理的过程转移到石头上的技术。
比如，
如果我们用小刀去制作雕像的话，
一些局部的细节我们顶多与小刀的厚度差不多，
如果是光的话，极小的细节也能处理到
这也是为何会采用光学雕刻。
这是因为光的波长只有上百纳米级，
很小，所以能处理到这些细节。
将光学雕刻运用到制作芯片，
Zx。dzPyfj.coM就是用光去照射已经涂抹好光刻胶的晶片，
因为光刻胶对光源非常敏感，
只要有光照就会在硅片上产生反应并留下痕迹。
这其实就是光刻机的原理。
它跟照相机差不多，
是利用紫外光将电路图案通过镜头系统。
投影到涂满光敏胶的硅晶片上，
将被照射位置处的光敏胶去除，
再把硅片放到腐蚀液中，
Zx。dzPyfj.coM没有光敏胶的部分就被腐蚀掉，
形成电路。
通常所说的多少纳米制程，
就是投影到硅片上的线条最小宽度。
整个过程原理很简单，
至于这个过程中有什么难度，
那就多了去了。
首先作为光刻机核心部件的反射镜，
这块镜片的工艺标准极其苛刻，
举个例子，
如果把这款凸透镜放大到山东省的面积，
那它的误差就不能超过一厘米，
是不是很惊人？
其次激光光源这一块，
难度极高，
光源的功率怎么控制？
即使是早前荷兰的阿斯麦尔在这一块也没有自己的光源，
而是后来收购了美国的光源公司，
最后就是光学镜片，它是最为关键的核心部分，
也是制作光刻机真正卡脖子的部分
当今世界的种种先进技术都离不开看上去普普通通的玻璃镜头、
镜片，
这些最核心的部分往往掌握在各大光学巨头手中，
而其中一家德国公司的光刻机镜头几乎包办了全球绝大部分高端芯片的生产。
全球百分之90的高端光刻机都由阿斯麦尔生产，
而他们制造出的高端芯片却又都出自蔡司镜头之下。
没错就是和vivo合作的那个蔡司。
再来看看制作光学镜片的难度，
举个例子，
以现在主流的五纳米为例，
宽度还不到一根头发丝的万分之一，
它需要精度极高的光学系统才能投影出来。
一台上亿美元的光刻机，
其中的镜头组件便占据了一大块体积和成本，
Zx。dzPyfj.coM光学镜片的材料精度和表面光洁度都要达到极高的标准。
差之毫厘，
谬以千里。
以上种种也导致光刻机制作难度之大，
因此全世界能够提供量产商用光刻机的厂商只有三家，
来自荷兰的阿斯麦尔和来自日本的尼康和佳能，
因为僧少，
所以粥多。
Zx。dzPyfj.coM一台全球最高端的EUV极紫外光刻机，
可以用来制造五纳米制成的芯片。
它每天24小时连续不停的运转，
一年的产出可达几十上百亿美元，
在中高端光刻机市场，
阿斯麦尔占据了百分之60的市场份额，
技术垄断更是达到了。
百分之90多，
我们所熟知的英特尔、
台积电、
三星、
海力士等巨头所使用的也全都是阿斯麦尔公司的产品。
所以我们或许能明白，
美国想方设法让台积电断供华为的理由，
就是要阻止和扼杀华为在高科技领域的发展和布局。
虽然华为有能力设计高性能的芯片处理器，
但国内的芯片制造能力还距离顶级水平很远，
断供必将导致华为无法在产品上搭载自己所设计的强大芯片，
另外我国芯片业的领头羊中芯国际早在2018年就花费1.2亿美金，
从阿斯麦尔公司预定了一台EUV光刻机。
但在美国的施压下，
阿斯麦尔公司终止与中芯国际合作的七纳米级以下先进工艺EUV光刻机的合作计划。
美国在近些年来不断的加码对中国的半导体产业进行打击，
更是将最先进的EUV光刻机对中国禁运，
打算将中国的先进半导体制造能力扼杀在摇篮里。
那这些措施起作用了吗？
确实是对中国企业造成了一些伤害。
但是呢？
中国正在克服美国芯片制造设备的禁令。
那些中国科技巨头正试图在不使用美国设备的情况下制造半导体芯片，
而且呢，
美国正在创造一个他无法控制的竞争对手。
没有伤痕累累，
哪来皮糙肉厚？
英雄自古多磨难，
我们有理由相信，
中国振兴民族产业是不可阻挡的，
即便有再大的困难，
最终也肯定只是我们迈向成功路上的垫脚石罢了。
对此你有什么想法？
点赞加关注与此您的评论小编会尽心，
每一条都会回复，
大家的支持是我下次再见的最大动力，
再见。
